至纯科技披露中报:净利润同比增约4倍清理洗涤设施批量出货在即
时间: 2024-08-06 02:06:11 | 作者: 移动式蒸汽清洗机
◎至纯科技2021年上半年营收9.20亿元,同比增76.51%;归母净利润1.50亿元,同比增395.51%。
◎“缺芯”的大背景下,各大晶圆厂商纷纷扩产,至纯科技在晶圆厂厂房建设和设备两个领域都有产品提供,无疑受益于此。
◎但半年报披露后的8月31日,股价大跌超8%,8月公司整体股价跌超20%
8月30日晚间,至纯科技(603690,SH)披露2021年中报,公司营收9.20亿元,同比增长76.51%;归母净利润1.50亿元,同比增长395.51%;扣非后归母净利润4263.52万元,同比增长69.06%。能够准确的看出,至纯科技扣非后归母净利润增速与营收增速基本保持同一水平。
对于营收增长,至纯科技表示主要系集成电路产业景气所带来的高纯系统业务及半导体设备业务订单大幅度的增加所致。对于归母净利润增长,上市公司表示主要系公司收入规模整体增加、公允市价变动损益及补贴收入增加所致。中报显示,公允市价变动收益为4118.00万元,计入当期损益的政府救助为7801.84万元。
8月31日,至纯科技几开,开盘后股价一路走低,收报53.29元/股,下跌8.01%。
至纯科技从高纯工艺系统起步,逐步拓展为具备湿法设备/晶圆再生、高纯工艺系统、先进工艺材料、生物制药、光传感及光器件业务等五大业务。
以经营业务划分,公司可分为高纯工艺系统、半导体设备、光传感器及光电子元器件业务三个报告分部。2021年上半年,对应业务营收分别为5.81亿元、2.69亿元和6857.13万元,同比增长53.40%、254.02%、2.76%。
可以看出,上市公司绝大部分营收仍由高纯工艺系统贡献,而半导体设备增速尤其高,已成为公司重要的业务增长点。
不管是高纯工艺系统,而是半导体设备,均和半导体高景气紧密关联。据信达证券研报,晶圆厂建设成本的75%为购买设备,25%为厂房建设。高纯工艺系统正属于厂房建设中的洁净室系统,占建厂成本的8%。
清洗设备,是贯穿晶圆制造全过程的关键设备,不管是半导体硅片制造、晶圆制造还是封测流程,都需要清洗设备。
在“缺芯”的大背景下,各大晶圆厂商纷纷扩产。而如上文所述,至纯科技在晶圆厂厂房建设和设备两个领域都有产品提供,无疑将受益于晶圆厂商扩产。
截至中报期末,至纯科技整体业务新增订单涉及金额17.2亿元。半导体板块新增订单涉及金额14.2亿元,占比高达82.56%。其中湿法设备新增订单4.3亿元,湿法设备中,单片湿法设备新增订单2亿元。
值得一提的是,至纯科技虽然归母净利润、扣非后归母净利润大幅度增长,但经营性现金流净额仍为负值,并较去年同期进一步下降。上半年,至纯科技经营性现金流净额为-1.70亿元,而去年同期为-1.06亿元。
对此,上市公司表示主要系随公司湿法设备在客户端投入更多的验证机台以及各业务板块订单的提升,公司经营性现金流将阶段性地更多支出,以支持业务的扩张。
当前,全球清理洗涤设施市场以日本、韩国和欧美企业为主,主要市场占有率由日本Dainippon Screen(即DNS)、TEL,韩国SEMES和美国Lam Research(泛林)占据。2018年,这四大巨头占据了98%的市场占有率。国内主要清理洗涤设施厂商为北方华创、至纯科技、盛美半导体和芯源微,份额相对较低。
国内轰轰烈烈的晶圆建厂潮,给了国内半导体设备厂商国产化的机会。上海证券认为:“未来随着清理洗涤设施收入占比不断的提高,至纯科技估值有望重构。在当前背景下,国产化是行业发展的新趋势,看好公司湿法设备的成长性。”
根据中报显示,至纯科技已经具备生产8~12寸高阶单晶圆湿法清理洗涤设施和槽式湿法清理洗涤设施的有关技术,目前已能够给大家提供28纳米节点的全部湿法工艺设备。首批次单片湿法设备已交付并顺利通过验证,2021年下半年将有7台套12寸槽式设备和8台套12寸单片设备交付到主流客户产线台套来自中芯宁波、中芯绍兴、中芯天津、华为、燕东科技和力积电等老客户的重复订单,11台套是化合物半导体、大硅片以及先进封装领域的销售新突破,客户包括绿能芯创、天岳、英诺赛科、晶方等。
先进制程方面,至纯科技在14纳米~7纳米技术世代已经接到4台套机台多个工艺的正式订单,将于2022年交付至客户产线验证。
需要注意的是,经过7月的大涨后,长期资金市场对于半导体行业的热情已会降低。8月以来,至纯科技股价整体持续下跌。8月1日至8月31日,至纯科技区间跌幅达22.91%。
另外,公司在半年报中提醒,下业投资的周期性波动、受国际形势影响程度等变化,会对公司的市场需求、销售毛利率及销售回款等造成直接影响,因此导致公司业绩波动。
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